清華大學材料科學與工程研究院《材料科學論壇》學術報告

報告時間：2023年10月18日上午10:00

報告人：G.Brian Stephenson（美國阿貢國家實驗室傑出研究員）

報告地點：清華大學逸夫技術科學樓A205學術報告廳

邀請人：李千老師

In Situ Surface X-ray Scattering Studies of MOVPE Growth

金屬有機化合物氣相處延（MOVPE）生長過程的原位X射線散射研究

報告簡介：

Surface X-ray scattering using a synchrotron source allows the atomic-scale morphology of a crystal surface to be observed in situ during growth and etching. This has proven to be uniquely powerful for studies of non-vacuum, reactive processes such as metal-organic vapor phase epitaxy (MOVPE). In this talk I will give highlights of our studies of MOVPE growth mechanisms, and discuss future directions using coherent X-ray methods.

基于同步輻射光源的表面X射線散射可實現在生長和蝕刻過程中對晶體表面原子尺度形貌特征的原位觀察。事實證明，它在研究金屬有機化合物氣相外延 (MOVPE) 等非真空環境下的反應過程中具有獨特且強大的功能。本講座将重點介紹我們對MOVPE生長機制的研究，并讨論一些使用相幹X射線散射方法的未來發展方向。

報告人簡介：

G.Brian Stephenson，美國阿貢國家實驗室傑出研究員、西北大學材料科學與工程系兼職教授。自1995年以來，Stephenson博士在阿貢國家實驗室領導同步輻射材料研究小組，并在2011-2014年間擔任世界三大高能同步輻射光源之一的美國先進光子源 (Advanced Photon Sources)的總負責人。在加入阿貢之前，他曾在紐約的IBM研究中心擔任團隊負責人。Stephenson博士分别在麻省理工學院、斯坦福大學取得學士和博士學位，并因其在物理學領域的卓越貢獻于1991年被授予美國物理學會會士榮譽。因其在硬X射線納米探針領域的突出貢獻，他在2009年榮獲了R&D 100獎。Stephenson博士将深入探讨第四代相幹X射線在材料合成過程的動态觀察和成像方面的前景和應用，并分享他在這個領域的深入見解和最新的研究成果。